研微碳化硅外延设备（SiC EPI）：Torridus，搭载研微自主研发的硬件及智能控制系统：Exsequi，用于第三代半导体碳化硅芯片的核心工艺环节 - 同质外延，兼容 6 寸和 8 寸晶圆，是一款工艺指标优异、维护频率低、产能高的碳化硅外延生长设备。
碳化硅外延设备
研微碳化硅外延设备（SiC EPI）：Torridus，搭载研微自主研发的硬件及智能控制系统：Exsequi，用于第三代半导体碳化硅芯片的核心工艺环节 - 同质外延，兼容 6 寸和 8 寸晶圆，是一款工艺指标优异、维护频率低、产能高的碳化硅外延生长设备。
产能提升至原来 1.2~1.4 倍，更低的 CoO
模拟优化反应腔设计，以达到 Wafer 膜厚和掺杂的均匀性、中间 -边缘可调性等性能要求
顶尖的机台稳定性，可靠性和安全性 : 多层次硬件和软件安全互锁测试
优秀软件操作系统和智能数据分析平台，世界顶尖工艺 / 硬件客户服务团队
8 寸设备可兼容 6 寸，提供完整工艺及设计方案