Perfectus-A 系列

常压外延设备

硅外延工艺是指在单晶衬底上生长一层跟衬底具有相同晶格排列的单晶材料,Perfectus-A 主要应用于同质外延层 (Si/Si) 生长,用于制造半导体分立器件和集成电路,通过生长高质量的外延层,可以提高 CMOS栅氧化层完整性、改善沟道漏电、提高集成电路可靠性。

市场应用

  • 硅片外延层
  • 功率器件
  • CIS 传感器
  • MEMS

核心优势

模拟优化反应腔设计,以达到晶圆膜厚和掺杂的均匀性、中间 -边缘可调性等性能要求 ;

研微自主研发的智能软件平台 Exsequi 达成顶尖的机台稳定性、可靠性和安全性,多层次硬件和软件安全互锁测试 ;

优秀软件操作系统和智能数据分析平台,世界顶尖工艺 / 硬件客户服务团队。